下圖中示出了室溫下PLZT系統(tǒng)陶瓷的組成相圖連日來。由圖可見(jiàn)特性，過(guò)量地加入La將產(chǎn)生不均勻多相，在均勻的固溶區(qū)域流程，La的置換將降低PLZT材料的鐵電-非鐵電轉(zhuǎn)變溫度共創輝煌，其幅度大致是每置換1個(gè)原子百分?jǐn)?shù)線性地降低37℃。

    當(dāng)PbZrO₃/PbTiO₃比為65/35時(shí)，9%La足以使鐵電相的穩(wěn)定區(qū)域降低到室溫以下使用。因此，這個(gè)組成（簡(jiǎn)寫(xiě)為9/65/35）在室溫下是非鐵電的立方對(duì)稱(chēng)的PLZT陶瓷。圖中SFE斜線區(qū)是彌散型亞穩(wěn)定鐵電相區(qū)建言直達。在此區(qū)域內(nèi)的PLZT組成能以足夠強(qiáng)的電場(chǎng)進(jìn)行電誘相變大幅拓展，并表現(xiàn)有弛豫特性。

（2）光

PLZT陶瓷的突出的特點(diǎn)就是它的高透明度大部分，PLZT陶瓷透明度的高低除了工藝因素外重要工具，與組成中的La的含量和Zr/Ti比也有關(guān)。一般沿著FE（某種鐵電相）-PE相界（見(jiàn)圖上）的組成具有大透明度更加堅強。例如提供有力支撐，對(duì)Zr/Ti=65/35的組成，La含量在8%-16%（摩爾分?jǐn)?shù)）的陶瓷具有大的透明度配套設備。圖下是組成為9/65/35的PLZT陶瓷的透光曲線發展成就。該圖表明，PLZT材料對(duì)紫外光具有Ji大的吸收能力建議，波長(zhǎng)低于370nm的紫外線將被全部吸收優勢。

然而，對(duì)可見(jiàn)光和紅外線卻是透明的，且一直延續(xù)到6.5微米加強宣傳，然后透明度開(kāi)始下降，到12微米左右再一次全吸收對外開放。PLZT陶瓷的折射率很高互動式宣講，n=2.5，因而具有高達(dá)31%的表面反射損失用的舒心。

（3）電光

PLZT的電光與它們的鐵電密切相關(guān)結構，其電光效應(yīng)的應(yīng)用都是基于電控散射的電控雙折射。目前普遍應(yīng)用的電光模式有以下幾種：①非記憶模式，二次雙折射效果較好；②非記憶，二次去極化服務；③記憶重要平臺，線性雙折射；④記憶雙折射⑤記憶散射選擇適用。圖下示出了觀察這五種效應(yīng)的光學(xué)設(shè)施生動、它們各自的特征電滯回線和典型的光輸出透過(guò)曲線。圖中頭兩種模式用的是纖細(xì)回線(SFE)材料核心技術，后三種用的是記憶性材料綠色化。此外設計，對(duì)b和e兩種情形是縱向模式，用氧化鋼錫（mo)薄膜作透明電極至關重要。e是散射模式主動性，所以無(wú)需用偏振片。在這五種電光應(yīng)用中改進措施，a種模式由于其裝配簡(jiǎn)單範圍，操作容易和能得到高的對(duì)比度（10000：1），所以常用發展的關鍵。

（4）應(yīng)用

電光陶瓷的成功應(yīng)用相當(dāng)程度上依賴(lài)于把它們做成器件后的可靠性和一致性。下表中概括地列出了PLZT陶瓷的各種電光效應(yīng)和它們的可能應(yīng)用。至今無障礙，PLZT陶瓷成功的應(yīng)用是：①在軍事上和工業(yè)中用作護(hù)目鏡體系；②用作記錄的線性光閥陣列宣講活動。目前正發(fā)展的有光調(diào)制器高產、濾色器和顯示器等。在圖像的存貯和顯示方面的應(yīng)用仍在繼續(xù)快速融入。近年來(lái)成功地制備出的PLZT帶動產業發展、PZT和PLT等電光薄膜，預(yù)期在未來(lái)的電光器件應(yīng)用中將發(fā)揮主要作用發揮作用。