下圖中示出了室溫下PLZT系統(tǒng)陶瓷的組成相圖。由圖可見高質量，過量地加入La將產(chǎn)生不均勻多相相對簡便，在均勻的固溶區(qū)域，La的置換將降低PLZT材料的鐵電-非鐵電轉(zhuǎn)變溫度流程，其幅度大致是每置換1個(gè)原子百分?jǐn)?shù)線性地降低37℃合作。

    當(dāng)PbZrO₃/PbTiO₃比為65/35時(shí)，9%La足以使鐵電相的穩(wěn)定區(qū)域降低到室溫以下助力各業。因此極致用戶體驗，這個(gè)組成（簡(jiǎn)寫為9/65/35）在室溫下是非鐵電的立方對(duì)稱的PLZT陶瓷。圖中SFE斜線區(qū)是彌散型亞穩(wěn)定鐵電相區(qū)應用。在此區(qū)域內(nèi)的PLZT組成能以足夠強(qiáng)的電場(chǎng)進(jìn)行電誘相變建議，并表現(xiàn)有弛豫特性品率。

（2）光

PLZT陶瓷的突出的特點(diǎn)就是它的高透明度，PLZT陶瓷透明度的高低除了工藝因素外不斷發展，與組成中的La的含量和Zr/Ti比也有關(guān)積極影響。一般沿著FE（某種鐵電相）-PE相界（見圖上）的組成具有大透明度。例如緊密協作，對(duì)Zr/Ti=65/35的組成越來越重要，La含量在8%-16%（摩爾分?jǐn)?shù)）的陶瓷具有大的透明度。圖下是組成為9/65/35的PLZT陶瓷的透光曲線穩定性。該圖表明像一棵樹，PLZT材料對(duì)紫外光具有Ji大的吸收能力，波長(zhǎng)低于370nm的紫外線將被全部吸收非常完善。

然而性能穩定，對(duì)可見光和紅外線卻是透明的，且一直延續(xù)到6.5微米作用，然后透明度開始下降情況正常，到12微米左右再一次全吸收。PLZT陶瓷的折射率很高技術特點，n=2.5提高鍛煉，因而具有高達(dá)31%的表面反射損失。

（3）電光

PLZT的電光與它們的鐵電密切相關(guān)凝聚力量，其電光效應(yīng)的應(yīng)用都是基于電控散射的電控雙折射有所提升。目前普遍應(yīng)用的電光模式有以下幾種：①非記憶，二次雙折射新的力量；②非記憶先進水平，二次去極化；③記憶全面展示，線性雙折射重要平臺；④記憶雙折射⑤記憶散射。圖下示出了觀察這五種效應(yīng)的光學(xué)設(shè)施核心技術、它們各自的特征電滯回線和典型的光輸出透過曲線應用提升。圖中頭兩種模式用的是纖細(xì)回線(SFE)材料，后三種用的是記憶性材料創造性。此外發展的關鍵，對(duì)b和e兩種情形是縱向模式，用氧化鋼錫（mo)薄膜作透明電極保障性。e是散射模式帶動產業發展，所以無需用偏振片。在這五種電光應(yīng)用中十分落實，a種模式由于其裝配簡(jiǎn)單倍增效應，操作容易和能得到高的對(duì)比度（10000：1），所以常用製造業。

（4）應(yīng)用

電光陶瓷的成功應(yīng)用相當(dāng)程度上依賴于把它們做成器件后的可靠性和一致性優化服務策略。下表中概括地列出了PLZT陶瓷的各種電光效應(yīng)和它們的可能應(yīng)用。至今發展基礎，PLZT陶瓷成功的應(yīng)用是：①在軍事上和工業(yè)中用作護(hù)目鏡兩個角度入手；②用作記錄的線性光閥陣列。目前正發(fā)展的有光調(diào)制器積極、濾色器和顯示器等探索。在圖像的存貯和顯示方面的應(yīng)用仍在繼續(xù)。近年來成功地制備出的PLZT產業、PZT和PLT等電光薄膜滿意度，預(yù)期在未來的電光器件應(yīng)用中將發(fā)揮主要作用。