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鐵電存儲(chǔ)器的基本存儲(chǔ)單元的構(gòu)成

更新時(shí)間:2021-01-29      點(diǎn)擊次數(shù):3090

鐵電存儲(chǔ)器的基本存儲(chǔ)單元一般有兩結(jié)構(gòu)使用,分別為 1T1COne transistor one capacitance)結(jié)構(gòu)和 2T2C Two transistor two capacitance)結(jié)構(gòu)合規意識,如圖 2-3 所 示。前者使用一個(gè)晶體管及一個(gè)鐵電電容組成一個(gè)存儲(chǔ)單元有效性,而后者則各為兩個(gè)創新內容。1T1C 結(jié)構(gòu)的優(yōu)點(diǎn)是能夠非常大的節(jié)省存儲(chǔ)單元所占芯片面積機遇與挑戰,但是該結(jié)構(gòu)會(huì)導(dǎo)致陣列中位線(Bit Line)的電壓差變低,讀出時(shí)對(duì)靈敏放大器的要求會(huì)高善於監督;2T2C 結(jié)構(gòu)雖然會(huì)使用大的面積集成技術,但是由于每個(gè)存儲(chǔ)單元都含有兩個(gè)鐵電電容,其陣列中兩根位線上的電壓差會(huì)大至關重要,讀出時(shí)準(zhǔn)確性會(huì)高發展空間。

 

在本文中,我們采用 2T2C 型存儲(chǔ)單元作為我們?cè)O(shè)計(jì)的鐵電存儲(chǔ)器的基本存儲(chǔ)單元有所應。2T2C 結(jié)構(gòu)由兩個(gè)晶體管和兩個(gè)鐵電電容組成足了準備,其連接方式如圖 2-3 右圖所示,該存儲(chǔ)單元包含 4 根與外部連接的信號(hào)著力提升。其中 WLWord Line)為字線深刻內涵,連接到兩個(gè)晶體管的柵極,用于控制兩個(gè) NMOS 晶體管的開關(guān)融合;BL深入闡釋、BLN 為位線,用于向存儲(chǔ)單元中寫入或讀出數(shù)據(jù)完成的事情;PLPlate Line)為板線統籌,連接到鐵電電容的一極,用于給鐵電電容充電使其極化協同控製;Fcap1 Fcap2 是兩個(gè)鐵電電容振奮起來,其一極共同連接至 PL,另一極分別與兩個(gè) NMOS 相連利用好,當(dāng) WL 開啟時(shí)深入各系統,這一極便可以與位線導(dǎo)通。

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