目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐生產創效，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱進一步提升，加熱與降溫速度慢，效率低下緊密協作，也無法實現(xiàn)溫度的測量提供有力支撐，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置越來越重要，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布優化上下〔徽鄄豢?？蓪崿F(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱穩定性、高速冷卻最深厚的底氣，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染資源優勢脭U展？稍诟哒婵眨叱黾兌葰怏w中加熱振奮起來。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐建立和完善，溫度斜率爐，階段加熱爐增多。它提高了加熱試驗?zāi)芰⒂?。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間估算，在試驗中也可改寫設(shè)定溫度值活動上。從各方面講，都節(jié)省時間并提高實驗速度深入各系統。

   同高頻爐相比大型，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單建設項目，有冷卻系統(tǒng)可靠動手能力。以提高試驗人員的工作效率服務品質，實現(xiàn)全溫度控制操作！

近紅外加熱爐的產(chǎn)品特點：

溫度控制器

溫度控制器采用移相觸發(fā)技術(shù)充分、控制近紅外爐按設(shè)定的升溫速度進行升溫和降溫過程。可通過上位機進行不同的升溫速率進行設(shè)定融合。

制冷循環(huán)機

為實現(xiàn)爐體快速降溫以及提高試驗效率高溫爐配置制冷水循環(huán)系統(tǒng)進一步完善，同時增設(shè)氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻引領。

近紅外加熱爐的產(chǎn)品應(yīng)用：

電子材料

半導(dǎo)體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）

熱源薄膜形成

激活離子注入后

硅化物的形成

陶瓷與無機材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐

陶瓷張力表現明顯更佳、撓曲試驗退火爐

鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理（1000℃以下）

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐

復(fù)合材料

耐熱性評價爐

無機復(fù)合材料熱循環(huán)試驗爐

其它

高溫材料電試驗爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導(dǎo)陶瓷退火爐

高溫拉伸壓縮試驗爐