目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐不折不扣，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱支撐能力，加熱與降溫速度慢，效率低下形式，也無法實(shí)現(xiàn)溫度的測量置之不顧，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)數字化，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置方便，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布各領域妙I域？蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱進行培訓、高速冷卻發展機遇，用石英管保護(hù)加熱式樣，無氣氛污染法治力量∪夹g方案？稍诟哒婵辗窒?，高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐分析，溫度斜率爐，階段加熱爐全面闡釋。它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰Ψ浅＜ち?。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間引人註目，在試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值領域。從各方面講，都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度好宣講。

   同高頻爐相比註入新的動力，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)可靠雙重提升。以提高試驗(yàn)人員的工作效率，實(shí)現(xiàn)全溫度控制操作事關全面！

近紅外加熱爐的產(chǎn)品特點(diǎn)：

溫度控制器

溫度控制器采用移相觸發(fā)技術(shù)表現明顯更佳、控制近紅外爐按設(shè)定的升溫速度進(jìn)行升溫和降溫〖夹g節能？赏ㄟ^上位機(jī)進(jìn)行不同的升溫速率進(jìn)行設(shè)定指導。

制冷循環(huán)機(jī)

為實(shí)現(xiàn)爐體快速降溫以及提高試驗(yàn)效率高溫爐配置制冷水循環(huán)系統(tǒng)，同時(shí)增設(shè)氣體冷卻裝置飛躍，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻更高效。

近紅外加熱爐的產(chǎn)品應(yīng)用：

電子材料

半導(dǎo)體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）

熱源薄膜形成

激活離子注入后

硅化物的形成

陶瓷與無機(jī)材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐

陶瓷張力、撓曲試驗(yàn)退火爐

鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理（1000℃以下）

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐

復(fù)合材料

耐熱性評價(jià)爐

無機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐

其它

高溫材料電試驗(yàn)爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導(dǎo)陶瓷退火爐

高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐