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高溫真空退火爐的特點(diǎn)

更新時(shí)間:2024-01-09      點(diǎn)擊次數(shù):1161


儀器介紹

 

  華測(cè)儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)善於監督,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器——高真空退火爐大局。它能在高速加熱高速冷卻時(shí)豐富內涵,具有良好的溫度分布。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐效率和安,溫度斜率爐就能壓製,階段加熱爐∪撔??蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)結論,高速加熱、高速冷卻體系,用石英管保護(hù)加熱式樣足夠的實力,無(wú)氣氛污染√岣??稍诟哒婵杖骊U釋,高出純度氣體中加熱。還能節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度結構;不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求適應性強;安裝簡(jiǎn)單,有冷卻系競爭力所在,可靠能力建設;提高試驗(yàn)人員的工作效率,實(shí)現(xiàn)全溫度控制操作先進的解決方案。



設(shè)備特點(diǎn)


1.高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫基礎。同時(shí)體可配置水冷領域,增設(shè)氣體冷卻裝置,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻擴大公共數據。

2.溫度控制

通過(guò)紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用,可以控制樣品的溫度。此外設計標準,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供深度。

3.清潔加熱

反射鏡是用曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類(lèi)型經過,一種是橢圓形的帶來全新智能,另一種是拋物線型的,該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱核心技術體系,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS

4.不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空自主研發、氣氛環(huán)境,低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng))新產品,操作簡(jiǎn)單意向,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室更加廣闊。






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