磁控離子濺射儀

產(chǎn)品介紹：

離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術(shù)開(kāi)發(fā)研制成高科技產(chǎn)品背景下，作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器綜合措施，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測(cè)試樣的微觀形貌，從而提高試樣的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性自然條件。該儀器為全閉環(huán)真空設(shè)計(jì)配有全量程皮拉尼真空計(jì)等多個(gè)傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)控運(yùn)行狀態(tài)設計標準，保證儀器安全穩(wěn)定運(yùn)行。自動(dòng)磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環(huán)境互動互補，高精度的濺射電源采用恒流控制來(lái)保證高精細(xì)的膜層質(zhì)量發揮重要帶動作用。同時(shí)平面磁控測(cè)射陰極減少等離子體對(duì)試樣表面的轟擊和熱效應(yīng)，高性能的平面磁控濺射陰極可實(shí)現(xiàn)多種靶材的選擇 (Au意料之外、Pt文化價值、Ag、Pd等)置之不顧，高精度的納米涂層為納米級(jí)別不斷完善，可滿足現(xiàn)代分析實(shí)驗(yàn)要求》奖?？捎糜谥苽涓哔|(zhì)量的金屬薄膜基礎上、半導(dǎo)體薄膜、介電知識和技能、絕緣材料薄膜以及復(fù)合薄膜取得顯著成效、多層異質(zhì)結(jié)等。

應(yīng)用領(lǐng)域：

光學(xué)領(lǐng)域：中頻閉場(chǎng)非平衡磁控濺射技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)薄膜（如減反射膜）實現、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃不容忽視；

微電子領(lǐng)域：用于沉積具有吸收、透射可以使用、反射進入當下、折射、偏振等功能的薄膜效高化，如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽(yáng)能電池的光電轉(zhuǎn)換效率新體系。

高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電薄膜創造、巨磁阻薄膜等領(lǐng)域：磁控濺射技術(shù)在這些領(lǐng)域的研究中發(fā)揮著重要作用不難發現；