磁控離子濺射儀

產(chǎn)品介紹：

離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術(shù)開發(fā)研制成高科技產(chǎn)品相對開放，作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測試樣的微觀形貌綜合運用，從而提高試樣的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性相貫通。該儀器為全閉環(huán)真空設(shè)計配有全量程皮拉尼真空計等多個傳感器實時監(jiān)控運(yùn)行狀態(tài)，保證儀器安全穩(wěn)定運(yùn)行脫穎而出。自動磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環(huán)境系統，高精度的濺射電源采用恒流控制來保證高精細(xì)的膜層質(zhì)量。同時平面磁控測射陰極減少等離子體對試樣表面的轟擊和熱效應(yīng)積極影響，高性能的平面磁控濺射陰極可實現(xiàn)多種靶材的選擇 (Au方法、Pt、Ag進一步提升、Pd等)重要的意義，高精度的納米涂層為納米級別，可滿足現(xiàn)代分析實驗要求規模最大￡P註度？捎糜谥苽涓哔|(zhì)量的金屬薄膜、半導(dǎo)體薄膜、介電穩中求進、絕緣材料薄膜以及復(fù)合薄膜橫向協同、多層異質(zhì)結(jié)等。

應(yīng)用領(lǐng)域：

光學(xué)領(lǐng)域：中頻閉場非平衡磁控濺射技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)薄膜（如減反射膜）再獲、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃穩定性；

微電子領(lǐng)域：用于沉積具有吸收、透射敢於挑戰、反射資源優勢、折射、偏振等功能的薄膜過程中，如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率振奮起來。

高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電薄膜總之、巨磁阻薄膜等領(lǐng)域：磁控濺射技術(shù)在這些領(lǐng)域的研究中發(fā)揮著重要作用長足發展；