磁控離子濺射儀

產(chǎn)品介紹：

磁控離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術(shù)開發(fā)研制成高科技產(chǎn)品，作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器向好態勢，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測試樣的微觀形貌相對簡便，從而提高試樣的導電性和導熱性。磁控離子濺射儀為全閉環(huán)真空設(shè)計配有全量程皮拉尼真空計等多個傳感器實時監(jiān)控運行狀態(tài)更默契了，保證儀器安全穩(wěn)定運行特性。自動磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環(huán)境，高精度的濺射電源采用恒流控制來保證高精細的膜層質(zhì)量流程。同時平面磁控測射陰極減少等離子體對試樣表面的轟擊和熱效應共創輝煌，高性能的平面磁控濺射陰極可實現(xiàn)多種靶材的選擇 (Au、Pt等特點、Ag使用、Pd等)，高精度的納米涂層為納米級別，可滿足現(xiàn)代分析實驗要求建言直達〈蠓卣?？捎糜谥苽涓哔|(zhì)量的金屬薄膜、半導體薄膜新體系、介電使命責任、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質(zhì)結(jié)等搖籃。

應用領(lǐng)域：

光學領(lǐng)域：中頻閉場非平衡磁控濺射技術(shù)應用于光學薄膜（如減反射膜）持續創新、低輻射玻璃和透明導電玻璃；

微電子領(lǐng)域：用于沉積具有吸收創新延展、透射性能、反射、折射長效機製、偏振等功能的薄膜，如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率聽得進。

高溫超導薄膜深入、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜等領(lǐng)域：磁控濺射技術(shù)在這些領(lǐng)域的研究中發(fā)揮著重要作用全技術方案；

機械加工行業(yè)：表面功能膜基本情況、超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術(shù)可有效提高表面硬度、復合韌性重要的、耐磨性和高溫化學穩(wěn)定性充分發揮，從而提高涂層產(chǎn)品的使用壽命。

產(chǎn)品優(yōu)勢：

1高端化、全自動操作全面展示，簡單易用，非常適用鎢燈絲充分發揮、臺式掃描電鏡等

l濺射電流自動調(diào)整?設(shè)定濺射電流后服務，系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)真空度，從而達到設(shè)定的濺射電流相互融合，調(diào)整時間＜5s選擇適用，波動范圍＜5%；無需按“實驗"鍵調(diào)整濺射電流提單產、無需操作“進氣閥"核心技術。

l濺射時間自動記憶?同類樣品一次設(shè)定即可；

l參數(shù)改變自動調(diào)整?濺射過程中可以隨時調(diào)整濺射電流和濺射時長設計，系統(tǒng)自動計算疊加競爭力所在，無需終止濺射過程能力建設；

l工作完成自動放氣；

l樣品臺高度調(diào)節(jié)1秒完成情況；

l濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀。

2堅持好、軟硬件互鎖開放要求，防誤操作，安全可靠

l真空度高于100Pa構建，啟動真空保護緊密相關，無法濺射；

l濺射電流高于50mA平臺建設，停止濺射過程重要組成部分；

l真空泵工作時，系統(tǒng)無法進行放氣操作先進技術；