磁控離子濺射儀

產品介紹：

磁控離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術開發(fā)研制成高科技產品，作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器效果，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測試樣的微觀形貌使用，從而提高試樣的導電性和導熱性。磁控離子濺射儀為全閉環(huán)真空設計配有全量程皮拉尼真空計等多個傳感器實時監(jiān)控運行狀態(tài)密度增加，保證儀器安全穩(wěn)定運行有效性。自動磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環(huán)境，高精度的濺射電源采用恒流控制來保證高精細的膜層質量機遇與挑戰。同時平面磁控測射陰極減少等離子體對試樣表面的轟擊和熱效應廣泛關註，高性能的平面磁控濺射陰極可實現多種靶材的選擇 (Au、Pt共創輝煌、Ag具有重要意義、Pd等)，高精度的納米涂層為納米級別大部分，可滿足現代分析實驗要求強大的功能。可用于制備高質量的金屬薄膜解決方案、半導體薄膜預期、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜幅度、多層異質結等結構。

應用領域：

光學領域：中頻閉場非平衡磁控濺射技術應用于光學薄膜（如減反射膜）、低輻射玻璃和透明導電玻璃貢獻；

微電子領域：用于沉積具有吸收規模最大、透射、反射統籌、折射最深厚的底氣、偏振等功能的薄膜，如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽能電池的光電轉換效率振奮起來。

高溫超導薄膜品質、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜等領域：磁控濺射技術在這些領域的研究中發(fā)揮著重要作用深入各系統；

機械加工行業(yè)：表面功能膜解決問題、超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術可有效提高表面硬度系列、復合韌性、耐磨性和高溫化學穩(wěn)定性相互配合，從而提高涂層產品的使用壽命慢體驗。

產品優(yōu)勢：

1、全自動操作智能化，簡單易用科技實力，非常適用鎢燈絲、臺式掃描電鏡等

l濺射電流自動調整?設定濺射電流后建設，系統(tǒng)自動調節(jié)真空度在此基礎上，從而達到設定的濺射電流，調整時間＜5s前來體驗，波動范圍＜5%和諧共生；無需按“實驗"鍵調整濺射電流、無需操作“進氣閥"適應性強。

l濺射時間自動記憶?同類樣品一次設定即可技術交流；

l參數改變自動調整?濺射過程中可以隨時調整濺射電流和濺射時長，系統(tǒng)自動計算疊加拓展，無需終止濺射過程創造更多；

l工作完成自動放氣；

l樣品臺高度調節(jié)1秒完成不斷進步；

l濺射過程可以利用曲線顯示工藝技術，清晰直觀。

2規模、軟硬件互鎖近年來，防誤操作，安全可靠

l真空度高于100Pa發展目標奮鬥，啟動真空保護技術先進，無法濺射；

l濺射電流高于50mA延伸，停止濺射過程認為；

l真空泵工作時，系統(tǒng)無法進行放氣操作新趨勢；