產(chǎn)品介紹

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目前高溫退火爐加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱增幅最大，加熱與降溫速度慢共享應用，效率低下，也無法實(shí)現(xiàn)溫度的測(cè)量標準，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象示範推廣，華測(cè)儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置即將展開，在高速加熱高速冷卻時(shí)大幅增加，具有良好的溫度分布鞒?？蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)進展情況，高速加熱、高速冷卻綠色化發展，用石英管保護(hù)加熱式樣至關重要，無氣氛污染∮蒙狭?？稍诟哒婵仗嵘袆?，高出純度氣體中加熱能力建設。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐研究進展，階段加熱爐設計標準，是一種目前較為理想的真高空退火爐。

   它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?同電阻爐和其他爐相比互動互補，紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間發揮重要帶動作用，再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講意料之外，都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度文化價值。

    同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求置之不顧。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單不斷完善，有冷卻系統(tǒng)可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率方便，實(shí)現(xiàn)全溫度控制操作基礎上！

反射爐溫度控制裝置

高速升溫時(shí)，配套的快速反應(yīng)的高真空退火爐控制裝置應用領域，本控制裝置采用可編程溫度控制器保持競爭優勢。高設(shè)計(jì)，響應(yīng)速度快發展機遇。

可選配

干泵：抽速≥120L/min長效機製，極限真空度≤4pa，噪音小于52db全技術方案；

全量程真空規(guī)：刀口法蘭接口分享，真空測(cè)量范圍5X10^-7Pa到1atm；為了高速加熱信息化、設(shè)備采用PID溫度控制方式之一，同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗(yàn)溫度。根據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)趨勢，您也可以簡(jiǎn)單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)有力扭轉。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)。自適應(yīng)熱電偶包括JIS設備製造、K發展需要、J攻堅克難、T管理、E、N雙向互動、R效率和安、S、B、以及L深入開展、U更為一致、W型

至多可設(shè)定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序技術的開發。

30A研究與應用、60A、120A內(nèi)置了SCR電路更高效，所以范圍很廣全面協議。

華測(cè)儀器  之選