產(chǎn)品介紹

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目前高溫退火爐加熱大都為管式爐或馬弗爐重要平臺，原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱，加熱與降溫速度慢選擇適用，效率低下生動，也無(wú)法實(shí)現(xiàn)溫度的測(cè)量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象核心技術，華測(cè)儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)綠色化，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時(shí)創新能力，具有良好的溫度分布至關重要。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)發展，高速加熱改進措施、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣效果，無(wú)氣氛污染發展的關鍵。可在高真空求得平衡，高出純度氣體中加熱有所應。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐多種場景，階段加熱爐科技實力，是一種目前較為理想的真高空退火爐。

   它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?同電阻爐和其他爐相比集中展示，紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間可靠保障，再試驗(yàn)中也可改寫(xiě)設(shè)定溫度值。從各方面講建設，都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度共同。

    同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單勃勃生機，有冷卻系統(tǒng)可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率宣講手段，實(shí)現(xiàn)全溫度控制操作！

反射爐溫度控制裝置

高速升溫時(shí)發行速度，配套的快速反應(yīng)的高真空退火爐控制裝置極致用戶體驗，本控制裝置采用可編程溫度控制器強大的功能。高設(shè)計(jì)，響應(yīng)速度快充分發揮。

可選配

干泵：抽速≥120L/min與時俱進，極限真空度≤4pa，噪音小于52db解決方案；

全量程真空規(guī)：刀口法蘭接口更優質，真空測(cè)量范圍5X10^-7Pa到1atm；為了高速加熱初步建立、設(shè)備采用PID溫度控制項目，同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗(yàn)溫度。根據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)重要方式，您也可以簡(jiǎn)單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)綜合運用。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)。自適應(yīng)熱電偶包括JIS增產、K脫穎而出、J、T的方法、E積極影響、N、R廣泛關註、S可靠、B、以及L方式之一、U我有所應、W型

至多可設(shè)定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序首要任務。

30A管理、60A、120A內(nèi)置了SCR電路深入實施，所以范圍很廣應用提升。

華測(cè)儀器  之選