

簡(jiǎn)要描述:北京華測(cè)儀器高溫管式爐/測(cè)試儀可以勻速相對較高、階梯(升降溫)、循環(huán)沖擊信息,真空姿勢、氣氛等多種的加熱方式,采用全電子控制技術(shù)首要任務,可實(shí)現(xiàn)控制精度波動(dòng)0.5°C以內(nèi)交流研討,溫控精度之高。 加熱速度之快形式,同時(shí)它可以提供了材料的多的性測(cè)試環(huán)境建設應用。
產(chǎn)品分類
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| 品牌 | HUACE/北京華測(cè) | 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 石油,能源,電子/電池,航空航天,電氣 |
北京華測(cè)儀器高溫管式爐
產(chǎn)品介紹:
目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐動力,原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱,加熱與降溫速度慢互動式宣講,效率低下效高性,也無(wú)法實(shí)現(xiàn)溫度的測(cè)量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象自動化,華測(cè)儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)提升,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時(shí)不折不扣,具有良好的溫度分布支撐能力。 可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)資源優勢,高速加熱、高速冷卻 特征更加明顯,用石英管保護(hù)加熱式樣估算,無(wú)氣氛污染〉目赡苄??稍诟哒婵詹灰窇?,高出純度氣體中加熱 。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐問題,溫度斜率爐大大縮短,階段加熱爐。
北京華測(cè)儀器高溫管式爐提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰Α?同電阻爐和其他爐相比緊密相關,紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間更默契了,再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講培訓,都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度不合理波動。
同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求重要工具。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單積極拓展新的領域,有冷卻系統(tǒng)可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率非常激烈,實(shí)現(xiàn)全溫度控制操作競爭力所在!
本試驗(yàn)爐具有:1000度、1200度領域、1400度各種型號(hào)溝通機製。也可根據(jù)用戶需求訂制!


反射鏡是具有曲率,采用5軸加工系統(tǒng)加工,以提高反射率註入新的動力。反射鏡有兩種類型領先水平,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的雙重提升,它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測(cè)試戰略布局。
設(shè)備優(yōu)勢(shì):
高速加熱與冷卻方式:高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng)表現明顯更佳,增設(shè)氣體冷卻裝置狀態,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。
溫度控制:過(guò)紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用指導,可以精確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式)廣泛認同。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供增持能力。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻:加熱/冷卻可用真空共同努力、氣氛環(huán)境行業內卷、低溫(高純度惰性氣體 靜態(tài)或流動(dòng))追求卓越,操作簡(jiǎn)單逐漸完善,使用石英玻璃制成。紅外線 可傳送到加熱/冷卻室合理需求。

應(yīng)用范圍:
1. 電子材料
◆半導(dǎo)體用硅化合化的PRA(加熱后急速冷卻)
◆熱源薄膜形成
◆激活離子注入后
◆硅化物的形成
2. 陶瓷與無(wú)機(jī)材料
◆ 陶瓷基板退火爐
◆玻璃基板退火爐是目前主流。
◆陶瓷張力、撓曲試驗(yàn)退火爐高質量。
3. 鋼鐵和金屬材料
◆ 薄鋼板加熱過(guò)程的數(shù)值模擬長期間。
◆ 爐焊接模擬
◆ 高真空熱處理(1000°C以下)
◆ 大氣氣體熔化過(guò)程
◆ 壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐
4. 復(fù)合材料
◆ 耐熱性評(píng)價(jià)爐
◆ 無(wú)機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐
5. 其它
◆ 高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐方案。
◆ 分段分區(qū)控制爐
◆ 溫度梯度爐
◆ 爐氣分析
◆ 超導(dǎo)陶瓷退火爐
北京華測(cè)儀器高溫管式爐/測(cè)試儀
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