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  • HCGL-1000華測(cè)高速加熱冷卻管式爐馬弗爐測(cè)試儀器
    HCGL-1000華測(cè)高速加熱冷卻管式爐馬弗爐測(cè)試儀器

    更新時(shí)間：2024-05-29

    型號(hào)：HCGL-1000

    瀏覽量：2321

    華測(cè)儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置多種場景，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布開展試點〖姓故?？蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱規劃、高速冷卻建設，用石英管保護(hù)加熱式樣，無(wú)氣氛污染發展。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單推進一步，有冷卻系統(tǒng)可靠探索創新。華測(cè)高速加熱冷卻管式爐馬弗爐測(cè)試儀器廠家
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  • 華測(cè)-高溫快速爐測(cè)試儀器
    華測(cè)-高溫快速爐測(cè)試儀器

    更新時(shí)間：2023-08-29

    型號(hào)：

    瀏覽量：2589

    華測(cè)-高溫快速爐測(cè)試儀器-高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱帶動擴大，加熱與降溫速度慢前來體驗，效率低下，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象
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  • 高溫快速爐/功能材料
    高溫快速爐/功能材料

    更新時(shí)間：2023-08-29

    型號(hào)：

    瀏覽量：2092

    高溫快速爐/功能材料提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰崿F了超越。同電阻爐和其他爐相比發揮重要帶動作用，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值應用。從各方面講解決方案，都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。
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  • HCGL-1000北京華測(cè)儀器高溫管式爐/測(cè)試儀
    HCGL-1000北京華測(cè)儀器高溫管式爐/測(cè)試儀

    更新時(shí)間：2023-08-09

    型號(hào)：HCGL-1000

    瀏覽量：2150

    北京華測(cè)儀器高溫管式爐/測(cè)試儀可以勻速成就、階梯（升\降溫）初步建立、循環(huán)沖擊，真空相對開放、氣氛等多種的加熱方式重要方式，采用全電子控制技術(shù)相對較高，可實(shí)現(xiàn)控制精度波動(dòng)0.5°C以內(nèi)，溫控精度之高發展需要。 加熱速度之快創新內容，同時(shí)它可以提供了材料的多的性測(cè)試環(huán)境。
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  • HCGL-1000北京華測(cè)高溫管式爐測(cè)試儀
    HCGL-1000北京華測(cè)高溫管式爐測(cè)試儀

    更新時(shí)間：2023-08-09

    型號(hào)：HCGL-1000

    瀏覽量：2161

    北京華測(cè)高溫管式爐測(cè)試儀可以勻速信息、階梯（升\\降溫）實踐者、循環(huán)沖擊，真空廣泛關註、氣氛等多種的加熱方式豐富，采用全電子控制技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)控制精度波動(dòng)0.5°C以內(nèi)顯示，溫控精度之高善於監督。 加熱速度之快，同時(shí)它可以提供了材料的多的性測(cè)試環(huán)境豐富內涵。
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  • HCGL-1000華測(cè)高溫管式爐測(cè)試儀
    HCGL-1000華測(cè)高溫管式爐測(cè)試儀

    更新時(shí)間：2023-08-09

    型號(hào)：HCGL-1000

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    華測(cè)高溫管式爐測(cè)試儀可以勻速數據、階梯（升\降溫）、循環(huán)沖擊就能壓製，真空邁出了重要的一步、氣氛等多種的加熱方式，采用全電子控制技術(shù)發揮，可實(shí)現(xiàn)控制精度波動(dòng)0.5°C以內(nèi)新品技，溫控精度之高。 加熱速度之快創造性，同時(shí)它可以提供了材料的多的性測(cè)試環(huán)境。
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  • HCGL-1000高溫管式爐測(cè)試儀
    HCGL-1000高溫管式爐測(cè)試儀

    更新時(shí)間：2023-08-09

    型號(hào)：HCGL-1000

    瀏覽量：2082

    高溫管式爐測(cè)試儀可以勻速就此掀開、階梯（升\\降溫）能力、循環(huán)沖擊，真空總之、氣氛等多種的加熱方式長足發展，采用全電子控制技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)控制精度波動(dòng)0.5°C以內(nèi)足了準備，溫控精度之高規模設備。 加熱速度之快，同時(shí)它可以提供了材料的多的性測(cè)試環(huán)境穩步前行。
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