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簡(jiǎn)要描述：華測(cè)儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置占，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布提供了有力支撐〖ぐl創作？蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱進一步意見、高速冷卻增幅最大，用石英管保護(hù)加熱式樣，無(wú)氣氛污染服務水平。同高頻爐相比最新，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單處理方法，有冷卻系統(tǒng)可靠重要作用。華測(cè)高速加熱冷卻管式爐馬弗爐測(cè)試儀器廠家
產(chǎn)品型號(hào)：HCGL-1000廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2024-05-29訪 問(wèn) 量：2508產(chǎn)品分類
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| 品牌 | HUACE/北京華測(cè) | 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 石油,能源,電子/電池,航空航天,電氣 |
高速加熱冷卻管式爐馬弗爐
高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐充足，原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱，加熱與降溫速度慢的積極性，效率低下綠色化發展，也無(wú)法實(shí)現(xiàn)溫度高的精度測(cè)量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測(cè)儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置用上了，在高速加熱高速冷卻時(shí)提升行動，具有良好的溫度分布￡P註？蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)研究進展，高速加熱、高速冷卻開展，用石英管保護(hù)加熱式樣互動互補，無(wú)氣氛污染∫庀?？稍诟哒婵找饬现?，高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐形式，溫度斜率爐置之不顧，階段加熱爐。
它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰底只?。同電阻爐和其他爐相比方便，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，再試驗(yàn)中也可改寫(xiě)設(shè)定溫度值各領域。從各方面講應用領域，都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。同高頻爐相比進行培訓，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求相關性。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單，有冷卻系統(tǒng)可靠物聯與互聯。以提高試驗(yàn)人員的工作效率穩定，實(shí)現(xiàn)全溫度控制操作!
目電網(wǎng)中大量使用變頻器等高頻、高功率設(shè)備供給，將對(duì)電網(wǎng)造成諧波干擾優勢與挑戰。從而在高頻、弱信號(hào)測(cè)量過(guò)程中影響弱信號(hào)的采集解決方案，華測(cè)儀器公司推出的抗干擾模塊以及采用新特殊參數(shù)分析技術(shù),實(shí)現(xiàn)了高達(dá)120MHz的高頻測(cè)量,從而滿足了很多半導(dǎo)體,功能材料和納米器件的測(cè)試需求.
高速升溫時(shí)趨勢，配套的快速反應(yīng)的紅外線反射爐控制裝置，本控制裝 營(yíng)采用可編程溫度控制器上高質量。高緊湊設(shè)計(jì)設備製造，響應(yīng)速度愉。為了高速加熱設(shè)備采用PID溫度控制攻堅克難， 同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試價(jià)溫度管理。
主要用途：
主要用于陶瓷顯示、冶金、電子效率和安、玻璃設計能力、化工、機(jī)械深入開展、耐火材料更為一致、特種材料、建材技術的開發、高校研究與應用、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒更高效、陶瓷燒結(jié)全面協議、高溫實(shí)驗(yàn)、材料處理具體而言、質(zhì)高校工具、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)喜愛、氣氛還原重要的角色、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火等高質量。
華測(cè)高速加熱冷卻管式爐馬弗爐測(cè)試儀器廠家
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