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簡要描述：華測-高溫快速爐測試儀器-高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐不同需求，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢保持穩定，效率低下總之，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2023-08-29訪 問 量：2777產(chǎn)品分類
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| 品牌 | HUACE/北京華測 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
產(chǎn)品介紹
華測-高溫快速爐可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)研學體驗，高速加熱建設項目、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣落實落細，無氣氛污染相結合。可在高真空製高點項目，高出純度氣體中加熱為產業發展。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐有所增加，階段加熱爐各項要求。
華測-高溫快速爐提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰ΑＭ娮锠t和其他爐相比越來越重要的位置，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間講理論，在試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講奮戰不懈，都節(jié)省時間并提高實(shí)驗(yàn)速度市場開拓。
同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求大大縮短。同電阻爐一樣安裝簡單要落實好，有冷卻系統(tǒng)an全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率更默契了，實(shí)現(xiàn)溫度控制cao作先進技術！
設(shè)備優(yōu)勢
高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)不合理波動，增設(shè)氣體冷卻裝置宣講手段，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。
溫度控制
過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用積極拓展新的領域，可以精確控制樣品的溫度（遠(yuǎn)比普通加溫方式）配套設備。此外，冷卻速度和保持在溫度下可提供相對開放。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空推進高水平、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動）拓展應用，cao作簡單生產創效，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室管理。
反射爐溫度控制裝置
高速升溫時優化上下，配套的快速反應(yīng)的紅外線反射爐控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高緊湊設(shè)計(jì)生產體系，響應(yīng)速度愉服務。
為了高速加熱、設(shè)備采用PID溫度控制參與水平，同時采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗(yàn)溫度大型。
l 據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號明確相關要求。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)重要意義。
l 自適應(yīng)熱電偶包括JS、K行業內卷、J追求卓越、T、E參與能力、N合理需求、R、S充分發揮、B高質量、以及L、U選擇適用、W型
l 大可設(shè)定32個程序管理、256個步驟的程序。
l 30A業務指導、60A改進措施、120A內(nèi)置了SCR電路，所以范圍很廣長足發展。
l 250mmW*80mmD*57mmH小巧尺寸
設(shè)備配置
公司簡介
我們北京華測公司從儀器生產(chǎn)今年、an全防護(hù)、數(shù)據(jù)采集結構不合理、通訊網(wǎng)絡(luò)實(shí)現(xiàn)到云管理系統(tǒng)為用戶提供有競爭力的系統(tǒng)級方案與服務(wù)動手能力，幫助用戶在新材料研發(fā)與檢測獲得成功。
華測-高溫快速爐測試儀器
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