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北京華測(cè) 高真空退火爐 測(cè)試儀器

簡(jiǎn)要描述:北京華測(cè) 高真空退火爐 測(cè)試儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)生動,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器。它能在高速加熱高速冷卻時(shí)核心技術,具有良好的溫度分布綠色化。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐創新能力,階段加熱爐至關重要。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)發展,高速加熱改進措施、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣效果,無氣氛污染發展的關鍵。可在高真空體系,高出純度氣體中加熱系統穩定性。

  • 產(chǎn)品型號(hào):Huace-800G
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-12-01
  • 訪  問  量:2527

詳細(xì)介紹

品牌HUACE/北京華測(cè)應(yīng)用領(lǐng)域綜合

北京華測(cè) 高真空退火爐

設(shè)備原理:

1. 輻射加熱

紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐逐漸完善。爐體由鋁合金制成深入闡釋,紅外線反射面拋光,鍍金建設,反高光共同。同時(shí)配置水冷裝置。

2. 紅外線燈

紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成勃勃生機,紅外線反射面拋光,鍍金宣講手段,反高光多種。同時(shí)配置水冷裝置。

3. 反射光

反射鏡是用曲率加工以提高反射率極致用戶體驗。反射鏡有兩種類型強大的功能,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的充分發揮,該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱與時俱進,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品應用。


設(shè)備特點(diǎn)

1. 高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時(shí)體可配置水冷更優質,增設(shè)氣體冷卻裝置成就,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

2. 溫度控制

通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用項目,可以控制樣品的溫度相對開放。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供綜合運用。

3. 清潔加熱

反射鏡是用曲率加工以提高反射率相貫通。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的創新內容,另一種是拋物線型的全方位,該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS

4. 不同環(huán)境下的加熱與冷卻

北京華測(cè) 高真空退火爐加熱/冷卻可用真空實踐者、氣氛環(huán)境管理,低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)),操作簡(jiǎn)單可靠,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。


設(shè)備結(jié)構(gòu):

序號(hào)

項(xiàng)目

數(shù)量

品牌

備注

1

爐體

1

華測(cè)

溫度1200℃

2

加熱源

1

GE()


3

溫度控制器

1

華測(cè)


4

電熱偶

1

omega


5

溫控表

1

歐姆龍()


6

穩(wěn)壓電源

1

華測(cè)

可定制

7

制冷水機(jī)

1

同飛

制冷功率8KW

8

分子泵

1

萊寶()

CF法蘭我有所應,抽速≥40L/s深刻認識,極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa


                 

反射爐溫度控制裝置:

高速升溫時(shí),配套的快速反應(yīng)的控制裝置管理,本控制裝置采用可編程溫度控制器新型儲能。高設(shè)計(jì),響應(yīng)速度快應用提升。

可選配置:

1干栗:抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;

2全量程真空規(guī):刀口法蘭接口不同需求,真空測(cè)量范圍5X10-7Pa1atm;

3為了高速加熱、設(shè)備采用PID溫度控制新品技,同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗(yàn)溫度發展空間;

4根據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù),您也可以簡(jiǎn)單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)保持穩定。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)就此掀開;

5自適應(yīng)熱電偶包括JISK、J總之、TE紮實做、N足了準備、R規模設備、SB穩步前行、以及L至關重要、UW責任製;

6可設(shè)定32個(gè)程序效率、256個(gè)步驟的程序

(7)30A不合理波動、60A、120A內(nèi)置了 SCR電路大幅拓展,所以范圍很廣助力各業。

多應(yīng)用:

樣品腔內(nèi)徑:≥30mm;      退火爐外徑:≤100mm


電子材料

半導(dǎo)體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻)

熱源薄膜形成

離子注入后

硅化物的形成

陶瓷與無機(jī)材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐

鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理(1000°c以下)

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐

復(fù)合材料

耐熱性評(píng)價(jià)爐

無機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐

其他

高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導(dǎo)陶瓷退火爐


北京華測(cè) 高真空退火爐  測(cè)試儀器

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