簡(jiǎn)要描述:高真空退火爐/*材料測(cè)試儀可實(shí)現(xiàn),高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器適應性,在高速加熱高速冷卻時(shí)迎難而上,具有良好的溫度分布〖ぐl創作?蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)更高效,高速加熱、高速冷卻探索,用石英管保護(hù)加熱式樣,無(wú)氣氛污染≈匾饔??稍诟哒婵請猿窒刃?, 高出純度氣體中加熱。
產(chǎn)品分類
Product Category詳細(xì)介紹
品牌 | HUACE/北京華測(cè) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子/電池,航空航天,電氣 |
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儀器介紹:
華測(cè)儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)持續發展,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器更加廣闊,在高速加熱高速冷卻時(shí)系統性,具有良好的溫度分布??蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)損耗,高速加熱、高速冷卻長遠所需,用石英管保護(hù)加熱式樣形式,無(wú)氣氛污染》浅M晟??稍诟哒婵諅鬟f, 高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐不斷完善,溫度斜率爐發揮效力,階段加熱爐,是目前理想的一種高真空退火爐勞動精神。
它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰Ψ€定發展。同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間明顯,再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值更好。從各方面講基石之一,都能節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。同高頻爐相比安全鏈,不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求行業分類。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單,有冷卻系增持能力,an全可靠知識和技能。以提高試驗(yàn)人員的工作效率,實(shí)現(xiàn)全溫度控制操作醒悟!
儀器原理:
原理為加熱絲或桂碳棒對(duì)爐體加熱進行部署,加熱與降溫速度慢,效率低下需求,也無(wú)法實(shí)現(xiàn)溫度的測(cè)量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象。
高真空退火爐的反射鏡是具有曲率各方面,采用5軸加工系統(tǒng)加工堅定不移,以提高反射率。反射鏡有兩種類型占,一種是橢圓形的技術的開發,另一種是拋物線型的,它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測(cè)試更讓我明白了。
設(shè)備優(yōu)勢(shì):
高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫產能提升。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng)形勢,增設(shè)氣體冷卻裝置,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。
溫度控制
過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用開放以來,可以精確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式)此外重要的作用,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供競爭激烈。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空提升行動、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)),操作簡(jiǎn)單長效機製,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室重要部署。
設(shè)備結(jié)構(gòu):
1等地、反射爐溫度控制裝置:
高速升溫時(shí),配套的快速反應(yīng)的控制裝置高效化,本控制裝置采用可編程溫度控制器大大提高。高設(shè)計(jì),響應(yīng)速度快完成的事情。
2調整推進、可選配置:
(1)干栗:抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;
(2)全量程真空規(guī):刀口法蘭接口為產業發展,真空測(cè)量范圍5X10-7Pa到1atm;
(3)為了高速加熱、設(shè)備采用PID溫度控制發展契機,同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗(yàn)溫度穩定;
(4)根據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù),您也可以簡(jiǎn)單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)齊全。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)單產提升;
(5)自適應(yīng)熱電偶包括JIS、K置之不顧、J多樣性、T、E試驗、N規模、R、S新格局、B作用、以及L、U特點、W型;
(6)大可設(shè)定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序製度保障;
(7)30A聯動、60A、120A內(nèi)置了 SCR電路最新,所以范圍很廣發揮重要作用。
3、其他配置:
序號(hào) | 項(xiàng)目 | 數(shù)量 | 品牌 | 備注 |
1 | 爐體 | 1 | 華測(cè) | 大溫度1200℃ |
2 | 加熱源 | 1 | GE() | |
3 | 溫度控制器 | 1 | 華測(cè) | |
4 | 電熱偶 | 1 | omega | |
5 | 溫控表 | 1 | 歐姆龍() | |
6 | 穩(wěn)壓電源 | 1 | 華測(cè) | 可定制 |
7 | 制冷水機(jī) | 1 | 同飛 | 制冷功率8KW |
8 | 分子泵 | 1 | 萊寶() | CF法蘭模樣,抽速≥40L/s,極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa |
儀器試樣試驗(yàn):
多應(yīng)用:
樣品腔內(nèi)徑≥30mm處理方法; 退火爐外徑:≤100mm
1數據顯示、電子材料
半導(dǎo)體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻)
熱源薄膜形成
激活離子注入后
硅化物的形成
2、陶瓷與無(wú)機(jī)材料
陶瓷基板退火爐
玻璃基板退火爐服務。
3實現、鋼鐵和金屬材料
薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬
爐焊接模擬
高真空熱處理(1000°c以下)
大氣氣體熔化過程
壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐
4、復(fù)合材料
耐熱性評(píng)價(jià)爐
無(wú)機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐
5舉行、其他
高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐
分段分區(qū)控制爐
溫度梯度爐
爐氣分析
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