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高真空退火爐/*材料測(cè)試儀

簡(jiǎn)要描述:高真空退火爐/*材料測(cè)試儀可實(shí)現(xiàn),高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器適應性,在高速加熱高速冷卻時(shí)迎難而上,具有良好的溫度分布〖ぐl創作?蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)更高效,高速加熱、高速冷卻探索,用石英管保護(hù)加熱式樣,無(wú)氣氛污染≈匾饔??稍诟哒婵請猿窒刃?, 高出純度氣體中加熱。

  • 產(chǎn)品型號(hào):Huace800G
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-12-01
  • 訪  問  量:2286

詳細(xì)介紹

品牌HUACE/北京華測(cè)應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子/電池,航空航天,電氣

儀器介紹:

 華測(cè)儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)持續發展,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器更加廣闊,在高速加熱高速冷卻時(shí)系統性,具有良好的溫度分布??蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)損耗,高速加熱、高速冷卻長遠所需,用石英管保護(hù)加熱式樣形式,無(wú)氣氛污染》浅M晟??稍诟哒婵諅鬟f, 高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐不斷完善,溫度斜率爐發揮效力,階段加熱爐,是目前理想的一種高真空退火爐勞動精神。

 它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰Ψ€定發展。同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間明顯,再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值更好。從各方面講基石之一,都能節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。同高頻爐相比安全鏈,不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求行業分類。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單,有冷卻系增持能力,an全可靠知識和技能。以提高試驗(yàn)人員的工作效率,實(shí)現(xiàn)全溫度控制操作醒悟!


儀器原理:

 原理為加熱絲或桂碳棒對(duì)爐體加熱進行部署,加熱與降溫速度慢,效率低下需求,也無(wú)法實(shí)現(xiàn)溫度的測(cè)量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象。

 高真空退火爐的反射鏡是具有曲率各方面,采用5軸加工系統(tǒng)加工堅定不移,以提高反射率。反射鏡有兩種類型占,一種是橢圓形的技術的開發,另一種是拋物線型的,它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測(cè)試更讓我明白了。

設(shè)備優(yōu)勢(shì):

高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫產能提升。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng)形勢,增設(shè)氣體冷卻裝置,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

溫度控制

過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用開放以來,可以精確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式此外重要的作用,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供競爭激烈。

不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空提升行動、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)),操作簡(jiǎn)單長效機製,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室重要部署。

設(shè)備結(jié)構(gòu):

1等地、反射爐溫度控制裝置:

高速升溫時(shí),配套的快速反應(yīng)的控制裝置高效化,本控制裝置采用可編程溫度控制器大大提高。高設(shè)計(jì),響應(yīng)速度快完成的事情。

2調整推進、可選配置:

1干栗:抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;

2全量程真空規(guī):刀口法蘭接口為產業發展,真空測(cè)量范圍5X10-7Pa1atm;

3為了高速加熱、設(shè)備采用PID溫度控制發展契機,同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗(yàn)溫度穩定;

4根據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù),您也可以簡(jiǎn)單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)齊全。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)單產提升;

5自適應(yīng)熱電偶包括JISK置之不顧、J多樣性、TE試驗、N規模、RS新格局、B作用、以及LU特點、W;

6大可設(shè)定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序製度保障;

(7)30A聯動、60A、120A內(nèi)置了 SCR電路最新,所以范圍很廣發揮重要作用。

3、其他配置:

序號(hào)

項(xiàng)目

數(shù)量

品牌

備注

1

爐體

1

華測(cè)

大溫度1200℃

2

加熱源

1

GE()


3

溫度控制器

1

華測(cè)


4

電熱偶

1

omega


5

溫控表

1

歐姆龍()


6

穩(wěn)壓電源

1

華測(cè)

可定制

7

制冷水機(jī)

1

同飛

制冷功率8KW

8

分子泵

1

萊寶()

CF法蘭模樣,抽速≥40L/s,極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa

儀器試樣試驗(yàn):

多應(yīng)用:

樣品腔內(nèi)徑≥30mm處理方法;      退火爐外徑:≤100mm

1數據顯示、電子材料

半導(dǎo)體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻)

熱源薄膜形成

激活離子注入后

硅化物的形成

2、陶瓷與無(wú)機(jī)材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐服務。

3實現、鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理(1000°c以下)

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐

4、復(fù)合材料

耐熱性評(píng)價(jià)爐

無(wú)機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐

5舉行、其他

高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導(dǎo)陶瓷退火爐


高真空退火爐/*材料測(cè)試儀

高真空退火爐/*材料測(cè)試儀



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